光學微電子凈化廠房

光學微電子凈化工程

光學微電子凈化工程之定義為將一定空間范圍內之空氣中的微塵粒子、有害空氣、細菌等之污染物排除，并將室內之溫濕度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音震動及照明、靜電控制在某一需求范圍內，而所給于特別設計之密閉空間。

光學微電子凈化工程亦名無塵室或清凈室，目前已是半導體、精密制造、液晶制造、光學制造、線路板制造和生物化學、醫(yī)藥、食品制造等行業(yè)*的重要設施。近幾年來，由于技術之創(chuàng)新發(fā)展，對于產品的高精密度化、細小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國在科技發(fā)展上極為重視的項目

1、 潔凈生產區(qū)

2、 潔凈輔助間（包括人員凈化用房、物料凈化用室和部分生活用室等）

3、 管理區(qū)（包括辦公、值班、管理和休息等）

4、 設備區(qū)（包括凈化空調系統(tǒng)應用、電氣用房、高純水和高純氣用房、冷熱設備用房）

光學微電子凈化工程凈化原理

氣流→初效凈化→空調→中效凈化→風機送風→管道→凈化風口→吹入房間→帶走塵埃細菌等顆粒 → 回風百葉窗→初效凈化 重復以上過程，即可達到凈化目的。

光學微電子凈化工程凈化參數(shù)

換氣次數(shù)：100000級≥15次；10000級≥20次；1000≥30次。壓差：主車間對相鄰房間≥5Pa

平均風速：10級、100級0.3－0.5m/s；溫度 冬季＞16℃；夏季 ＜26℃；波動±2℃。

溫度45－65％；GMP粉劑車間濕度在50％左右為宜；電子車間濕度略高以免產生靜電。

噪聲≤65dB（A）；新風補充量是總送風量的10％－30％；照度300LX。

 

光學微電子行業(yè)凈化工程設計方案分析之無塵車間的特點

A、無塵車間的潔凈度:

LCD制屏的簡略流程為：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷層散布隔墊物→組合→劃線和切割→LC注入→貼偏振片→制屏終檢。

在本設計里是指末端工藝的一些無塵車間，其凈化潔凈度一般為千級或萬級或十萬級。背光屏類無塵車間主要是這類產品的沖壓車間、組裝等無塵車間，其潔凈度一般為萬級或十萬級。

B、室內空氣參數(shù)要求 ：

(1)溫濕度要求：溫度一般為24+2℃，相對濕度為55+5%。

(2)新風量大。由于這類車間內，人員比較多，可以根據(jù)以下數(shù)值應取下列的大值：非單向流潔凈室總送風量的10-30%;補償室內排風和保持室內正壓值所需的新鮮空氣量;保證室內每人每小時的新鮮 空氣量≥40m3/h。

(3)送風量大。為了滿足潔凈室內的潔凈度及熱濕平衡，需要較大的送風量，就300平方米的車間，吊頂高度為2.5米的，如果是萬級，送風量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送風量(換氣次數(shù)，是≥25次/h);如果是十萬級，送風量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送風量(換氣次數(shù)，是≥15次/h)。